Willkommen auf meiner Homepage

Georg Albert PVD Beschichtungen

  Die PVD =   Physical Vapor Deposition ( Physikalische Dampfabscheidung im Vakuum ) stellt eine wichtige Methode für die Herstellung   von geeigneten Substraten für die Forschung und Entwicklung dar.  

Insbesondere in der Forschung an Ober- und Grenzflächen, wie in der Biochemie und Physikalischen Chemie, aber auch in den Mikro- und Nanotechnologien (z.B. Nano- mechanik, -optik, -elektronik, -lithographie) ist die PVD ein unverzichtbares Verfahren, denn es können damit und mit dem optimierten Einsatz von Materialien und Bedampfungsparametern eine sehr große Bandbreite von gewünschten Schichteigenschaften erzeugt und entwickelt werden.

..

 
 
Seit Beginn meiner Diplomarbeit 1995 beschäftige ich mich mit der Entwicklung von neuen Substraten für die Forschung mit Hilfe der PVD. Dabei benutze ich ausschließlich die thermische PVD mit indirekter Widerstandsheizung (Schiffchenbedampfung), sowie das DC-Magnetron-Sputtern mit oder ohne reaktive Gase. Daraus ist eine kleine Liste von Standardsubstraten entstanden. Diese und andere Substrate werden inzwischen an viele Universitäten und Forschungseinrichtungen in Europa und nach überseeischen Ländern vertrieben.